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工艺段覆盖至14nm，累计获得授权专利102项
产品齐全
形成中束流、大束流、高能机、特种等系列化产品体系
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入选"2023年度央企十大国之重器"，获得多项荣誉
专业团队
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创新高效 笃实兴企

INNOVATION AND EFFICIENCY, INTEGRITY PROSPERS THE ENTERPRISE

以创新立企，以高效强企，以靠谱树企

引领半导体装备创新

INNOVATION LEADER

工艺段覆盖至14nm · 累计授权专利102项

自主可控离子注入技术

SELF-CONTROLLABLE ION IMPLANTATION TECHNOLOGY

成为自主可控离子注入技术的引领者，国内顶尖的离子注入机设备供应商，国际一流的离子注入设备服务商

半导体装备领域深耕者

SEMICONDUCTOR EQUIPMENT SPECIALIST

专注离子注入 · 覆盖逻辑/存储/功率/化合物半导体全领域 · 服务国内主流集成电路产线

北京中科信半导体

BEIJING ZKX SEMICONDUCTOR

攻克离子注入装备关键技术瓶颈，解决国产自主可控元器件制造工艺装备短板问题

产品与方案

PRODUCTS & SOLUTIONS

定制化研发注入服务

为科研院所和高校提供灵活、高效的定制化离子注入研发服务，支持特殊工艺需求和原型验证。

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化合物半导体注入方案

面向 GaN、GaAs 等化合物半导体的离子注入需求，提供从工艺开发到量产的完整解决方案。

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成像传感器注入方案

为 CIS 图像传感器等成像器件提供定制化离子注入方案，优化暗电流、像素响应均匀性等关键参数。

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功率器件注入解决方案

为 IGBT、MOSFET 等功率半导体器件提供全面的离子注入工艺方案，优化器件导通电阻和开关特性，提升器件性能。

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先进逻辑与存储芯片注入方案

针对 28nm 及以下先进逻辑和存储芯片的离子注入需求，提供高精度、低损伤的注入工艺解决方案，满足关键尺寸控制要求。

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SiC 功率器件注入解决方案

面向第三代半导体 SiC 功率器件制造，提供从低能到高能的全流程离子注入工艺方案，覆盖高温注入、大剂量注入等关键工艺需求。

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